Impurity Distribution in Multicrystalline Silicon Growth


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

This paper presents experimental data on the growth of multicrystalline silicon with tailored electrical properties using starting silicon of purity better than 99.999 at %. Our calculations demonstrate that the effective distribution coefficients of Fe-group impurities decrease with increasing impurity concentration in the starting charge.

Авторлар туралы

A. Nepomnyashchikh

Vinogradov Institute of Geochemistry, Siberian Branch

Email: ropr@igc.ork.ru
Ресей, ul. Favorskogo 1a, Irkutsk, 664033

R. Presnyakov

Vinogradov Institute of Geochemistry, Siberian Branch

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: ropr@igc.ork.ru
Ресей, ul. Favorskogo 1a, Irkutsk, 664033

Қосымша файлдар

Қосымша файлдар
Әрекет
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2018