Tantalum chemical vapor deposition on substrates from various materials

O. Yu. Goncharov; S. Yu. Treshchev; V. I. Lad’yanov; R. R. Faizullin; V. N. Guskov; L. Kh. Baldaev

doi:10.1134/S0020168517100089

Tantalum chemical vapor deposition on substrates from various materials

Авторлар: Goncharov O.Y.¹, Treshchev S.Y.¹, Lad’yanov V.I.¹, Faizullin R.R.², Guskov V.N.³, Baldaev L.K.⁴
Мекемелер:
1. Physical-Technical Institute, Udmurt Scientific Center, Ural Branch
2. OOO Protective Coatings Research and Production Association
3. Kurnakov Institute of General and Inorganic Chemistry
4. OOO Technological Systems for Protective Coatings
Шығарылым: Том 53, № 10 (2017)
Беттер: 1064-1068
Бөлім: Article
URL: https://journals.rcsi.science/0020-1685/article/view/158306
DOI: https://doi.org/10.1134/S0020168517100089
ID: 158306

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

Tantalum coatings have been produced for the first time by hydrogen-free chemical vapor deposition through reduction of tantalum pentabromide with cadmium vapor, which allowed the deposition temperature to be substantially reduced (by more than 200 K). The coatings consisted of α- and/or β-Ta, depending on the substrate material.