Phenomenological description of strain relief in step-graded metamorphic buffer layers based on InxAl1 − xAs ternary solutions


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Spatial distributions of the residual elastic strains in layers of step-graded metamorphic buffers of two different designs, grown via molecular beam epitaxy on the basis of InxAl1 − xAs ternary solutions, are obtained by means of reciprocal space mapping. It is shown that with allowance for work hardening, which affects strain relief in buffer layers and increases the strain in dislocation-free layers, the mechanism of strain relief in the final buffer steps, and the residual elastic strain in a buffer dislocation-free layer, are governed by the same phenomenological law as in a single-layer heterostructure.

Об авторах

A. Aleshin

Institute for Ultrahigh Frequency Semiconductor Electronics

Автор, ответственный за переписку.
Email: a.n.aleshin@mail.ru
Россия, Moscow, 117105

A. Bugaev

Institute for Ultrahigh Frequency Semiconductor Electronics

Email: a.n.aleshin@mail.ru
Россия, Moscow, 117105

O. Ruban

Institute for Ultrahigh Frequency Semiconductor Electronics

Email: a.n.aleshin@mail.ru
Россия, Moscow, 117105

N. Andreev

National University of Science and Technology MISiS

Email: a.n.aleshin@mail.ru
Россия, Moscow, 119049

I. Shchetinin

National University of Science and Technology MISiS

Email: a.n.aleshin@mail.ru
Россия, Moscow, 119049

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Allerton Press, Inc., 2017

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).