Ion-plasma technologies for the preparation and modification of nanosized LiF layers

O. I. Shipilova; A. O. Khoroshikh; A. A. Kolomyltsev; A. A. Chernykh; V. L. Papernyj; N. A. Ivanov

doi:10.3103/S1062873816010196

Ion-plasma technologies for the preparation and modification of nanosized LiF layers

Авторлар: Shipilova O.I.¹, Khoroshikh A.O.¹, Kolomyltsev A.A.¹, Chernykh A.A.¹, Papernyj V.L.¹, Ivanov N.A.²
Мекемелер:
1. Irkutsk State University
2. National Research State Technical University
Шығарылым: Том 80, № 1 (2016)
Беттер: 32-34
Бөлім: Proceedings of the XIV International Conference “Luminescence and Laser Physics”
URL: https://journals.rcsi.science/1062-8738/article/view/183546
DOI: https://doi.org/10.3103/S1062873816010196
ID: 183546

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

The characteristics of LiF films containing Ag nanoparticles prepared via vacuum thermal deposition and magnetron sputtering, and then painted in microwave discharge plasma, are investigated. It is shown that simple and freely available ion-plasma technologies allow us to obtain nanosized LiF layers promising for use in photonics.