Reflectometry technique for studying metal nanolayers on a substrate

A. V. Khomchenko; I. U. Primak; A. B. Sotsky; I. A. Korneeva; N. A. Krekatsen; A. N. Pyatlitski

doi:10.3103/S1062873816040195

Reflectometry technique for studying metal nanolayers on a substrate

Авторлар: Khomchenko A.V.¹, Primak I.U.¹, Sotsky A.B.², Korneeva I.A.¹, Krekatsen N.A.³, Pyatlitski A.N.³
Мекемелер:
1. Belarusian–Russian University
2. Kuleshov Mogilev State University
3. OAO Integral
Шығарылым: Том 80, № 4 (2016)
Беттер: 431-434
Бөлім: Proceedings of the XI Conference “Lasers and Laser Information Technologies: Fundamental Problems and Applications”
URL: https://journals.rcsi.science/1062-8738/article/view/184249
DOI: https://doi.org/10.3103/S1062873816040195
ID: 184249

Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат
Рұқсат жабық

Рұқсат берілді
Рұқсат жабық

Тек жазылушылар үшін

Аннотация
Авторлар туралы
Әдебиет тізімі
Қосымша файлдар
Статистика

Аннотация

A new noncontact technique is proposed for determining the parameters of nanosized metal coatings (absorption coefficients, refractive indices, and thicknesses). It is based on processing the measured angular dependence of the energy reflection coefficient of a polarized laser beam reflected by a thin-film structure surface. Features of determining the parameters of films on silicon substrates have been considered.