The Influence of the InAlAs Layer Surface Morphology on the Temperature Dependence of Parameters of Au/Ti/n-InAlAs(001) Schottky Diodes


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Growth-related structural defects present on the surface of InAlAs layers grown by molecular beam epitaxy on InP(001) substrates influence the temperature dependences of the current–voltage characteristics of Au/Ti/InAlAs Schottky barriers. It is established that these defects in the form of pits cause the appearance of regions with reduced barrier height. At a surface density of ≥107 cm–2, these defects significantly influence the parameters of the Schottky barriers at temperatures below 200 K.

Об авторах

I. Chistokhin

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090

M. Aksenov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences; Novosibirsk State University

Автор, ответственный за переписку.
Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090; Novosibirsk, 630090

N. A. Valisheva

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090

D. Dmitriev

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090

I. Marchishin

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090

A. Toropov

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090

K. Zhuravlev

Rzhanov Institute of Semiconductor Physics, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences; Novosibirsk State University

Email: m.se.aksenov@gmail.com
Россия, Novosibirsk, 630090; Novosibirsk, 630090

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2019

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).