Моделирование влияния полевой электронной эмиссии из катода с тонкой диэлектрической пленкой на его распыление в газовом разряде в смеси аргона и паров ртути
- Авторы: Бондаренко Г.Г.1, Кристя В.И.2, Савичкин Д.О.3, Фишер М.Р.1
-
Учреждения:
- Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”
- Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана
- ЗАО “Топ Системы”
- Выпуск: № 3 (2024)
- Страницы: 81–87
- Раздел: Статьи
- URL: https://journals.rcsi.science/1028-0960/article/view/259416
- DOI: https://doi.org/10.31857/S1028096024030132
- EDN: https://elibrary.ru/hekafe
- ID: 259416
Цитировать
Аннотация
Предложена модель слаботочного газового разряда в смеси аргона и паров ртути при наличии на поверхности катода тонкой диэлектрической пленки. Модель учитывает, что в такой смеси существенный вклад в ионизацию рабочего газа может давать ионизация атомов ртути при их столкновениях с метастабильными возбужденными атомами аргона. В разряде на поверхности пленки накапливаются положительные заряды, создающие в диэлектрике электрическое поле, достаточное для возникновения полевой эмиссии электронов из металлической подложки электрода в диэлектрик. Такие электроны ускоряются в пленке полем и могут выходить из нее в разрядный объем. В результате увеличивается эффективный коэффициент ионно-электронной эмиссии катода. Рассчитаны температурные зависимости характеристик разряда и показано, что вследствие быстрого уменьшения при снижении температуры концентрации паров ртути в смеси увеличиваются напряженность электрического поля в разрядном промежутке и разрядное напряжение. Наличие на катоде тонкой диэлектрической пленки может приводить к улучшению его эмиссионных свойств и существенному снижению разрядного напряжения. Это обусловливает уменьшение энергии ионов и атомов, бомбардирующих поверхность катода и, следовательно, интенсивности распыления катода в разряде.
Об авторах
Г. Г. Бондаренко
Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”
Автор, ответственный за переписку.
Email: gbondarenko@hse.ru
Россия, 101000, Москва
В. И. Кристя
Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана
Email: kristya@bmstu.ru
Калужский филиал
Россия, 248000, КалугаД. О. Савичкин
ЗАО “Топ Системы”
Email: gbondarenko@hse.ru
Россия, 127055, Москва
М. Р. Фишер
Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”
Email: kristya@bmstu.ru
Россия, 101000, Москва
Список литературы
- Атаев А.Е. Зажигание ртутных разрядных источников излучения высокого давления. М.: Изд-во МЭИ, 1995. 168 c.
- Zissis G., Kitsinelis S. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2009. V. 42. № 17. P. 173001. http://doi.org./10.1088/0022-3727/42/17/173001
- Langer R., Garner R., Paul I., Horn S., Tidecks R. // Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2016. V. 76. № 1. P. 10802. http://doi.org./10.1051/epjap/2016160277
- Phelps A.V., Petrović Z.L. // Plasma Sources Sci. Tech. 1999. V. 8. № 3. Р. R21. http://doi.org./10.1088/0963-0252/8/3/201
- Lay B., Moss R.S., Rauf S., Kushner M.J. // Plasma Sources Sci. Technol. 2003. V. 12. № 1. P. 8. http://doi.org./10.1088/0963-0252/12/1/302
- Райзер Ю.П. Физика газового разряда. Долгопрудный: Интеллект, 2009. 736 с.
- Saifutdinov A.I. // Plasma Sources Sci. Tech. 2022. V. 31. № 9. P. 094008. http://doi.org./10.1088/1361-6595/ac89a7
- Sakai Y., Sawada S., Tagashira H. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. V. 22. № 2. P. 282. http://doi.org./10.1088/0022-3727/22/2/007
- Petrov G.M., Giuliani J.L. // J. Appl. Phys. 2003. V. 94. № 1. P. 62. http://doi.org./10.1063/1.1576895
- Кристя В.И., Фишер М.Р. // Изв. РАН. Сер. физ. 2010. Т. 74. № 2. С. 298.
- Riedel M., Düsterhöft H., Nagel F. // Vacuum. 2001. V. 61. № 2. P. 169. http://doi.org./10.1016/S0042-207X(01)00112-9
- Гуторов К.М., Визгалов И.В., Маркина Е.А., Курнаев В.А. // Изв. РАН. Сер. физ. 2010. Т. 74. № 2. С. 208.
- Stamenković S.N., Marković V.Lj., Gocić S.R., Jovanović A.P. // Vacuum. 2013. V. 89. P. 62. http://doi.org./10.1016/j.vacuum.2012.09.010
- Bondarenko G.G., Fisher M.R., Kristya V.I. // Vacuum. 2016. V. 129. P. 188. http://doi.org./10.1016/j.vacuum.2016.01.008
- Hagelaar G.J.M., Kroesen G.M.W., Klein M.H. // J. Appl. Phys. 2000. V. 88. № 5. P. 2240. http://doi.org./10.1063/1.1287758
- Capdeville H., Pédoussat C., Pitchford L.C. // J. Appl. Phys. 2002. V. 91. № 3. P. 1026. http://doi.org./10.1063/1.1430891
- Ito T., Cappelli M.A. // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90. № 10. P. 101503. http://doi.org./10.1063/1.2711416
- Sukhomlinov V.S., Mustafaev A.S., Murillo O. // Phys. Plasmas. 2018. V. 25. № 1. P. 013513. http://doi.org./10.1063/1.5017309
- Кристя В.И., Савичкин Д.О., Фишер М.Р. // Поверхность. Рентген., синхротрон. и нейтрон. исслед. 2016. № 4. С. 84. http://doi.org./10.7868/S0207352816040119
- Бондаренко Г.Г., Кристя В.И., Савичкин Д.О. // Изв. вузов. Физика. 2017. Т. 60. № 2. С. 129
- Bondarenko G.G., Kristya V.I., Savichkin D.O. // Vacuum. 2018. V. 149. P. 114. http://doi.org./10.1016/j.vacuum.2017.12.028
- Бондаренко Г.Г., Фишер М.Р., Мьо Ти Ха, Кристя В.И. // Изв. вузов. Физика. 2019. Т. 62. № 1. С. 72.
- Bondarenko G.G., Fisher M.R., Kristya V.I., Bondar-iev V. // High Temperature Material Proc. 2022. V. 26. № 1. P. 17. http://doi.org./10.1615/HighTempMatProc.2021041820
- Бондаренко Г.Г., Дубинина М.С., Фишер М.Р., Крис-тя В.И. // Изв. вузов. Физика. 2017. Т. 60. № 12. С. 48.
- Зыкова Е.В., Кучеренко Е.Т., Айвазов В.Я. // Радио- техника и электроника. 1979. Т. 24. № 7. С. 1464.
- Suzuki M., Sagawa M., Kusunoki T., Nishimura E., Ike-da M., Tsuji K. // IEEE Trans. ED. 2012. V. 59. P. 2256. http://doi.org./10.1109/TED.2012.2197625
- Уэймаус Д. Газоразрядные лампы. М.: Энергия, 1977. 344 с.
- Савичкин Д.О., Кристя В.И. // Поверхность. Рентген., синхротрон. и нейтрон. исслед. 2019. № 2. С. 107. http://doi.org./10.1134/S0207352819020112
- Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. 1 / Ред. Бериш Р. М.: Мир, 1984. 336 c.
- Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. 2. / Ред. Бериш Р. М.: Мир, 1986. 488 c.
- Hine K., Yoshimura S., Ikuse K., Kiuchi M., Hashimo-to J., Terauchi M., Nishitani M., Hamaguchi S. // Jpn. J. Appl. Phys. 2007. V. 46. № 12L. P. L1132. http://doi.org./10.1143/JJAP.46.L1132
- Yoshimura S., Hine K., Kiuchi M., Hashimoto J., Terauchi M., Honda Y., Nishitani M., Hamaguchi S. // Jpn. J. Appl. Phys. 2012. V. 51. № 8S1. Р. 08HB02. http://doi.org./10.1143/JJAP.51.08HB02