Особенности взаимодействия атомов инертных газов низкой энергии с метильными группами на поверхности материалов с ультранизкой диэлектрической проницаемостью

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

В настоящей работе с помощью компьютерного моделирования исследована возможность функционализации поверхности материалов с ультранизкой диэлектрической проницаемостью под действием атомов инертных газов низкой энергии. Моделирование проводили квантовомеханическим методом теории функционала плотности с использованием алгоритмов молекулярной динамики в программном пакете VASP. Детальный анализ рассчитанных траекторий позволил выявить условия, при которых воздействие налетающих атомов He, Ne, Ar, Xe с энергией до 30 эВ может приводить к удалению поверхностных метильных групп, обеспечивающих гидрофобные свойства поверхности таких диэлектриков. На основании полученных данных сделана оценка пороговой энергии (минимальной энергии атомов, при которой возможно образование CH3-радикала), и исследованы особенности механизма такого процесса при воздействии легких и тяжелых атомов. Показано, что в рассматриваемом диапазоне энергий взаимодействие Ne, Ar и Xe с метильными группами имеет преимущественно столкновительный характер, поэтому с ростом массы налетающей частицы пороговая энергия возрастает. В противоположность этому, воздействие атома He способно вызывать возмущение пространственного распределения электронной плотности вблизи метильной группы, которое инициирует интенсивные колебания атомов и в итоге приводит к отрыву метильной группы.

Об авторах

А. А. Соловых

Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова,
Физический факультет

Email: sycheva.phys@gmail.com
Россия, 119991, Москва

А. А. Сычева

Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова,
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына

Автор, ответственный за переписку.
Email: sycheva.phys@gmail.com
Россия, 119991, Москва

Е. Н. Воронина

Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова,
Физический факультет; Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова,
Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д.В. Скобельцына

Email: sycheva.phys@gmail.com
Россия, 119991, Москва; Россия, 119991, Москва

Список литературы

  1. Baklanov M.R., Ho P.S., Zschech E. Advanced Interconnects for ULSI Technology. N.Y.: Wiley & Sons, 2012. 596 p.
  2. Baklanov M.R., de Marneffe J.-F., Shamiryan D., Urbanowicz A.M., Shi H., Rakhimova T.V., Huang H., Ho P.S. // J. Appl. Phys. 2013. V. 113. № 4. P. 041101. https://www.doi.org/10.1063/1.4765297
  3. Xu H., Hu Zh.-J., Qu X.-P., Wan H., Yan Sh.-S., Li M., Chen Sh.-M., Zhao Yu-H., Zhang J., Baklanov M.R. // Appl. Surf. Sci. 2019. V. 498. P. 143887. https://www.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143887
  4. Lionti K., Volksen W., Magbitang T., Darnon M., Dubois G. // ECS J. Solid State Sci. Technol. 2014. V. 4. № 1. P. N3071. https://www.doi.org/10.1149/2.0081501jss
  5. Prager L., Marsik P., Wennrich L., Baklanov M.R., Naumov, Pistol S.L., Schneider D., Gerlach J.W., Verdonck P., Buchmeiser M.R. // Microelectronic Eng. 2008. V. 85. № 10. P. 2094. https://www.doi.org/10.1016/j.mee.2008.04.039
  6. Lee J., Graves D.B. // J. Phys. D Appl. Phys. 2010. V. 43. № 42. P. 425201. https://www.doi.org/10.1088/0022-3727/43/42/425201
  7. Sycheva A.A., Voronina E.N., Rakhimova T.V., Novikov L.S., Rakhimov A.T. // J. Vac. Sci. Technol. A. 2020. V. 38. № 5. P. 053004. https://www.doi.org/10.1116/6.0000389
  8. Palov A.P., Proshina O.V., Rakhimova T.V., Rakhimov A.T., Voronina E.N. // Plasma Process. Polym. 2021. V. 18. P. 2100007. https://www.doi.org/10.1002/ppap.202100007
  9. Соловых А.А., Сычева А.А., Воронина Е.Н. // Письма в ЖТФ. 2022. Т. 48. № 7. С. 16. https://www.doi.org/10.21883/PJTF.2022.07.52286.19085
  10. Кон В. // УФН. 2002. Т. 172. № 3. С. 336. https://www.doi.org/10.3367/UFNr.0172.200203e.0336
  11. Kresse G., Joubert D. // Phys. Rev. 1999. V. 59. № 3. P. 1758. https://www.doi.org/10.1103/PhysRevB.59.1758
  12. Blöchl P.E. // Phys. Rev. B. 1994. V. 50. № 24. P. 17953. https://www.doi.org/10.1103/PhysRevB.50.17953
  13. Voevodin V.V., Antonov A.S., Nikitenko D.A., Shvets P.A., Sobolev S.I., Sidorov I.Yu., Stefanov K.S., Voevodin V.V., Zhumatiy S.A. // Supercomput. Frontiers Innovations. 2019. V. 6. № 2. P. 4. https://www.doi.org/10.14529/jsfi190201
  14. Perdew J.P., Burke K., Ernzerhof M. // Phys. Rev. Lett. 1996. V. 77. № 18. P. 3865. https://www.doi.org/10.1103/PhysRevLett.77.3865
  15. Chaudhari M., Du J. // J. Vac. Sci. & Technol. A. 2011. V. 29. № 3. P. 031303. https://www.doi.org/10.1116/1.3568963
  16. Rimsza J.M., Kelber J.A., Du J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 2014. V. 47. № 33. P. 335204. https://www.doi.org/10.1088/0022-3727/47/33/335204
  17. Kazi H., Rimsza J., Du J. // J. Vac. Sci. Technol. A. 2014. V. 32. № 5. P. 051301. https://www.doi.org/10.1116/1.4890119
  18. De Darwent B. Bond Dissociation Energies in Simple Molecules. Washington: Nat. Bur. Stand, 1970. 60 p.
  19. Humphrey W., Dalke A., Schulten K. // J. Molec. Graphics. 1996. V. 14. № 1. P. 33. https://www.doi.org/10.1016/0263-7855(96)00018-5
  20. Behrisch R., Eckstein W. Sputtering by Particle Bombardment: Experiments and Computer Calculations from Threshold to MeV Energies. Berlin: Springer-Verlag, 2007. 200 p.

Дополнительные файлы


© А.А. Соловых, А.А. Сычева, Е.Н. Воронина, 2023

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах