Формирование распыла проводящей жидкости в присутствии высокого напряжения и плазмы электрического разряда

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Исследовано взаимное воздействие электрического разряда и газокапельного потока проводящей жидкости, создаваемого форсункой центробежного типа. В эксперименте регистрировались электрические параметры разряда, а также проводилось измерение локальных характеристик распыла: распределения числа капель и компонент вектора их скорости по диаметру капель. Измерения проводились методом двойного теневого микрофотографирования. Исследовано влияние распыла проводящей жидкости на осредненные по времени электрические параметры разряда, а также изменение свойств распыла под действием высокого напряжения и тока. Дополнительно проведено измерение характеристик распыла при подаче высокого напряжения допробойной величины. Проведено скоростное фотографирование разряда в присутствии капель проводящей жидкости.

Об авторах

А. С. Савельев

Объединенный институт высоких температур РАН

Автор, ответственный за переписку.
Email: fisteh@mail.ru
Россия, Москва

Список литературы

  1. Locke B.R. and Shih K.-Y. // Plasma Sources Sci. Technol. 2011. V. 20. 034006
  2. Thagard S.M. and Locke B.R. Electrical discharge plasma for water treatment / Advanced Oxidation Processes for Water Treatment. Ed. by Stefan M.I. London: IWA Publishing. 2018. Chapter 12. P. 493.
  3. Li Z., Zhang X., Qi M., Zhao X., Qu Z., Wang X., Li W., Xu D. // J. Appl. Phys. 2023. V. 134. 093301.
  4. Malik M.A. // Plasma Chem. Plasma Process. 2010. V. 30 (1) P. 21.
  5. Saveliev A.S. // Plasma Phys. Rep. 2023. V. 49 (5). P. 626.
  6. Савельев А.С. // Вестник Объединенного института высоких температур. 2019. Т. 2. С. 69.
  7. De Cock N., Massinon M., and Lebeau F. Agricultural spray measurement by high-speed shadow imagery / Proc. of the International Advances in Pesticide Application, Oxford, United Kingdom, 2014. p. 122.
  8. Widodo C.S., Sela H., and Santosa D.R. // AIP Conf. Proc. 2018. V. 2021 (1). 050003.
  9. Rao S.M., and Thyagaraj T. // Appl. Clay Sci. 2007. V. 38. P. 113.
  10. Акишев Ю.С., Апонин Г.И., Грушин М.Е., Караль-ник В.Б., Панькин М.В., Петряков А.В., Труш-кин Н.И. // Физика плазмы. 2008. № 4. С. 347.

Дополнительные файлы


© А.С. Савельев, 2023

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах