Fluorination Reaction Control by Surface Migration of Atomic Fluorine

N. S. Chilingarov; Чилингаров Н. С.; A. V. Knot’ko; Кнотько А. В.; A. Ya. Borschevsky; Борщевский А. Я.; L. N. Sidorov; Сидоров Л. Н.

doi:10.31857/S0044453723090030

Регулирование реакции фторирования с помощью поверхностной миграции атомарного фтора

Авторы: Чилингаров Н.С.¹, Кнотько А.В.², Борщевский А.Я.¹, Сидоров Л.Н.¹
Учреждения:
1. Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Химический факультет
2. Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, Факультет наук о материалах
Выпуск: Том 97, № 9 (2023)
Страницы: 1343-1348
Раздел: ФИЗИЧЕСКАЯ ХИМИЯ ДИСПЕРСНЫХ СИСТЕМ И ПОВЕРХНОСТНЫХ ЯВЛЕНИЙ
URL: https://journals.rcsi.science/0044-4537/article/view/136672
DOI: https://doi.org/10.31857/S0044453723090030
EDN: https://elibrary.ru/XJHSVR
ID: 136672

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ
Доступ закрыт

Доступ предоставлен
Доступ закрыт

Только для подписчиков

Аннотация
Об авторах
Список литературы
Дополнительные файлы
Статистика

Аннотация

Фторирование атомарным фтором представляется перспективным способом функционализации материалов, поскольку такие процессы протекают в широком диапазоне температур с активационным барьером, близким к нулю. В статье продемонстрирована возможность управления фторированием платины атомарным фтором с помощью поверхностной миграции (диффузии) адсорбированных атомов фтора (F_адс). Изменение концентрации фтора в зоне реакции достигается изменением направления и величины диффузионного потока F_адс за счет образования альтернативных зон реакции. Возникновение диффузионных потоков определяется площадью контакта поверхностей с основной и альтернативной реакционными зонами, обеспечивающими проводимость для F_адс. Разработанный подход позволил экспериментально установить достижение равновесия в реакции PtF₄(г.) + 2F(г.) = PtF₆(г.) и измерить константу равновесия.

Ключевые слова

атомарный фтор, поверхностная диффузия, электронная микроскопия, кнудсеновская масс-спектрометрия

Список литературы

Weinstock B., Malm J.G., Weaver E.E. // J. Amer. Chem. Soc. 1961. P. 4310.
Jones W.E., Scolnik E.G. // Chem. Rev. 1976. P. 563.
Безмельницин В.Н., Легасов В.А., Чайванов B.B. // Докл. акад. наук СССР. 1977. Т. 235. С. 96.
Feng W., Long P., Feng Y. et al. // Adv. Sci. 2016. V. 3. P. 1500413.
Alimi Ar.R., Gerber R.B., Apkarian V.A. // J. Chem. Phys. 1990. V. 92. P. 3551.
Feld J., Kunttu H., Apkarian V.A. // Ibid. 1990. V. 93. P. 1009.
Misochko E.Ya., Akimov A.V., Wight C.A. // Chem. Phys. Lett. 1997. V. 274. P. 23.
Misochko E.Ya., Akimov A.V., Wight C.A. // J. Phys. Chem. A. 1999. V. 103. P. 7972.
Chilingarov N.S., Knot’ko A.V., Shlyapnikov I.M. et al. // Ibid. 2015. V. 119. P. 8452.
Chilingarov N.S., Borschevsky A.Ya., Romanovsky B.V. et al. // J. Phys. Chem. C. 2018. V. 122. P. 26372.
Chilingarov N.S., Rau J.V., Sidorov L.N. et al. // J. Fluorine Chem. A. 2000. V. 104. P. 291.
Чилингаров Н.С., Рау Д.В., Никитин А.В. и др. // Журн. физ. химии. 1997. Т. 71. С. 1455.
Tressaud A., Pintchovski F., Lozano L. et al. // Mat. Res. Bull. 1976. V. 11. P. 689.
Чилингаров Н.С., Скокан Е.В., Рау Д.В. и др. // Журн. физ. химии. 1992. Т. 66. С. 1127.
Drowart J., Chattilon C., Hastie J. et al. // Pure Appl. Chem. 2005. V. 77. P. 683.
Гурвич Л.В. // Вестн. АН СССР. 1983. № 3. С. 54.