Enhancement of the Schottky Effect in a Si(100)—Water System Using Porous Polymeric Track-Etched Membranes


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The kinetics of variation in the electronic work function (EWF) of single-crystal silicon Si(100) exposed to liquid water is studied. It is shown that immersing porous film track-etched membranes (TEMs) with pore sizes of 3.0–0.1 μm in water containing Si(100) considerably reduces the EWF of single-crystal silicon. It is found that a similar effect is observed when TEMs in the form of caps are held over the surface of water containing Si(100) at a distances of around 1.5–2.0 cm. It is speculated that the occurrence of a developed surface of TEMs in an open system changes the supramolecular structure of the water and leads to the formation of associates (H2O)n with increased dipole moments (compared to molecular moments), enhancing the Schottky effect during sorption on Si(100) surfaces.

Об авторах

S. Novikov

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Россия, Moscow, 124498

S. Timoshenkov

National Research University of Electronic Technology

Автор, ответственный за переписку.
Email: spt@miee.ru
Россия, Moscow, 124498

N. Korobova

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Россия, Moscow, 124498

E. Goryunova

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Россия, Moscow, 124498

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).