Enhancement of the Schottky Effect in a Si(100)—Water System Using Porous Polymeric Track-Etched Membranes


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

The kinetics of variation in the electronic work function (EWF) of single-crystal silicon Si(100) exposed to liquid water is studied. It is shown that immersing porous film track-etched membranes (TEMs) with pore sizes of 3.0–0.1 μm in water containing Si(100) considerably reduces the EWF of single-crystal silicon. It is found that a similar effect is observed when TEMs in the form of caps are held over the surface of water containing Si(100) at a distances of around 1.5–2.0 cm. It is speculated that the occurrence of a developed surface of TEMs in an open system changes the supramolecular structure of the water and leads to the formation of associates (H2O)n with increased dipole moments (compared to molecular moments), enhancing the Schottky effect during sorption on Si(100) surfaces.

Авторлар туралы

S. Novikov

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Ресей, Moscow, 124498

S. Timoshenkov

National Research University of Electronic Technology

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: spt@miee.ru
Ресей, Moscow, 124498

N. Korobova

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Ресей, Moscow, 124498

E. Goryunova

National Research University of Electronic Technology

Email: spt@miee.ru
Ресей, Moscow, 124498


© Pleiades Publishing, Ltd., 2016

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>