Отправить статью по E-mail Поток положительных ионов кислорода с высокой энергией из плазмы на подложку в импульсном магнетронном разряде с горячей мишенью
- Авторы: Колодко Д.В.1,2,3, Казиев А.В.2, Агейченков Д.Г.2, Лисенков В.Ю.2
-
Учреждения:
- Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН
- Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
- Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
- Выпуск: Том 68, № 10 (2023)
- Страницы: 1040-1042
- Раздел: ФИЗИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В ЭЛЕКТРОННЫХ ПРИБОРАХ
- URL: https://journals.rcsi.science/0033-8494/article/view/232593
- DOI: https://doi.org/10.31857/S0033849423100078
- EDN: https://elibrary.ru/DPCDQT
- ID: 232593
Цитировать
Открытый доступ
Доступ предоставлен
Только для подписчиков
Аннотация
Зарегистрирована группа высокоэнергетичных положительных ионов O+ в потоке из плазмы сильноточного импульсного магнетронного разряда с горячей мишенью в газовой смеси Ar/O2. Механизмом возникновения ускоренных ионов O+ может выступать конверсия ускоренных в катодном слое отрицательных ионов O– → O+ в процессах перезарядки или ионизации электронным ударом.
Ключевые слова
Об авторах
Д. В. Колодко
Фрязинский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН; Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”; Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
Email: dobrynya_kol@mail.ru
Российская Федерация, 141190, Московской обл., Фрязино, пл. Введенского, 1; Российская Федерация, 115409, Москва, Каширское шос., 31; Российская Федерация, 119991, Москва, Ленинский просп., 53
А. В. Казиев
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
Email: dobrynya_kol@mail.ru
Российская Федерация, 115409, Москва, Каширское шос., 31
Д. Г. Агейченков
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
Email: dobrynya_kol@mail.ru
Российская Федерация, 115409, Москва, Каширское шос., 31
В. Ю. Лисенков
Национальный исследовательский ядерный университет “МИФИ”
Автор, ответственный за переписку.
Email: dobrynya_kol@mail.ru
Российская Федерация, 115409, Москва, Каширское шос., 31
Список литературы
- Handbook of Thin Film Deposition / Eds K. Seshan, D. Schepis. 4th ed. Amsterdam: Elsevier, 2018.
- Mattox D.M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing. Amsterdam: Elsevier, 2010.
- Aghda S.K., Holzapfel D.M., Music D. et al. // Acta Mater. 2023. V. 250. P. 118864.
- Greczynski G., Petrov I., Greene J.E. et al. // J. Vac. Sci. Technol. Amer. Vacuum Soc. 2019. V. 37. № 6. P. 060801.
- Ellmer K., Welzel T. // J. Mater. Res. 2012. V. 27. № 5. P. 765.
- Welzel T., Ellmer K. // Vak. Forsch. Prax. 2013. V. 25. № 2. P. 52.
- Kaziev A.V., Kolodko D.V., Tumarkin A.V. et al. // Surf. Coatings Technol. 2021. V. 409. P. 126889.
- Tumarkin A.V., Kaziev A.V., Kharkov M.M. et al. // Surf. Coatings Technol. 2016. V. 293. P. 42.
- Kolodko D.V., Ageychenkov D.G., Kaziev A.V. et al. // J. Instrum. 2019. V. 14. № 10. P. P10005.
- Kolodko D.V., Kaziev A.V., Tumarkin A.V. // 8th Int. Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects. Tomsk. 2–8 Oct., 2022. Tomsk: TPU Publishing House, 2022. P. 1028.
- Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Phys. Commun., 2019. V. 3. № 5. P. 055011.
- Hippler R., Cada M., Stranak V. et al. // J. Appl. Phys. 2019. V. 125. № 1. P. 013301.
- Pokorný P., Bulíř J., Lančok J. et al. // Plasma Process. Polym. 2010. V. 7. № 11. P. 910.
- Pokorný P., Musil J., Lančok J. et al. // Vacuum. 2017. V. 143. P. 438.
- Hippler R., Denker C. // Plasma Sources Sci. Technol. 2019. V. 28. № 3. P. 035008.
- Pokorný P., Mišina M., Bulíř J. et al. // Plasma Process. Polym. 2011. V. 8. № 5. P. 459.
Дополнительные файлы
