The effect of the type of conductivity on the initiation and formation of pores in silicon during electrochemical etching


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

The effect of the type of Si conductivity on the initiation and formation of pores in silicon samples during electrochemical etching was studied. The difference between the pore formation processes in n- and p-conducting silicon was attributed to the properties and the nature of layers formed in the initial period of etching on the Si surface. A possible composition of the layers formed on the Si surface was proposed considering the chemistry of Si interaction with the etching agent.

Об авторах

E. Abramova

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow

A. Khort

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow

A. Yakovenko

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Автор, ответственный за переписку.
Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow

V. Tsygankov

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow

E. Slipchenko

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow

V. Shvets

Moscow Technological University (Institute of Fine Chemical Technologies)

Email: anavenko@yandex.ru
Россия, Moscow


© Pleiades Publishing, Ltd., 2017

Данный сайт использует cookie-файлы

Продолжая использовать наш сайт, вы даете согласие на обработку файлов cookie, которые обеспечивают правильную работу сайта.

О куки-файлах