Взаимодействие металлического катализатора с материалом барьерного слоя в процессе высокотемпературного формирования наночастиц никеля

Cover Page

Cite item

Full Text

Open Access Open Access
Restricted Access Access granted
Restricted Access Subscription Access

Abstract

Проведено исследование влияния условий отжига на формирование наночастиц никеля на барьерном слое нитрида титана, синтезированного методом атомно-слоевого осаждения. Показано, что размеры наночастиц зависят от температуры и времени отжига. При температурах выше 700°C и длительности отжига более 5 мин наблюдается явление коалесценции, которое приводит к росту частиц и уменьшению их поверхностной плотности. Во время отжига никель диффундирует в нитрид титана и его количество на поверхности падает. Экспериментальные результаты согласуются с моделированием формирования наночастиц в рамках гидродинамической модели. Определены потенциал взаимодействия катализатора с буферным слоем и вязкость расплава, которые показывают, что при плавлении тонкого слоя никеля, порядка единиц нанометров, металл подобен переохлажденной жидкости. Моделирование показало, что при отжиге па́ры тонкая пленка металла–барьерный слой средний размер наночастицы меньше при меньших потенциалах взаимодействия между веществами па́ры.

About the authors

С. Булярский

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук

Author for correspondence.
Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А

А. Дудин

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук

Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А

П. Львов

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук; Ульяновский государственный университет

Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А; Россия, 432017, Ульяновск, ул. Л. Толстого, 42

Т. Гришин

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук

Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А

Г. Рудаков

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук

Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А

Г. Гусаров

Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук

Email: bulyar2954@mail.ru
Россия, 119991, Москва, Ленинский пр., 32А

References

  1. Булярский С.В. Углеродные нанотрубки: технология, управление свойствами, применение. Ульяновск: Стрежень, 2011. 480 с.
  2. Dasgupta K., Joshi J.B., Banerjee S. Fluidized Bed Synthesis of Carbon Nanotubes – A Review // Chem. Eng. J. 2011. V. 171. № 3. P. 841–869. https://doi.org/10.1016/j.cej.2011.05.038
  3. Kumar M., Ando Y. Chemical Vapor Deposition of Carbon Nanotubes: A Review on Growth Mechanism and Mass Production // J. Nanosci. Nanotechnol. 2010. V. 10. № 6. P. 3739–3758. https://doi.org/10.1166/jnn.2010.2939
  4. Ago H., Komatsu T., Ohshima S., Kuriki Y., Yumura M. Dispersion of Metal Nanoparticles for Aligned Carbon Nanotube Arrays // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 77. № 1. P. 79–81. https://doi.org/10.1063/1.126883
  5. Melechko A.V., Merkulov V.I., McKnight T.E., Guillorn M.A., Klein K.L., Lowndes D.H., Simpson M.L. Vertically Aligned Carbon Nanofibers and Related Structures: Controlled Synthesis and Directed Assembly // J. Appl. Phys. 2005. V. 97. № 4. P. 41301. https://doi.org/10.1063/1.1857591
  6. Lee C.J., Park J., Yu J.A. Catalyst Effect on Carbon Nanotubes Synthesized by Thermal Chemical Vapor Deposition // Chem. Phys. Lett. 2002. V. 360. № 3–4. P. 250–255. https://doi.org/10.1016/S0009-2614(02)00831-X
  7. Andrews R., Jacques D., Qian D., Rantell T. Multiwall Carbon Nanotubes: Synthesis and Application // Acc. Chem. Res. 2002. V. 35. № 12. P. 1008–1017. https://doi.org/10.1021/ar010151m
  8. Bulyarskiy S.V., Zenova E.V., Lakalin A.V., Molodenskii M.S., Pavlov A.A., Tagachenkov A.M., Terent’ev A.V. Influence of a Buffer Layer on the Formation of a Thin-Film Nickel Catalyst for Carbon Nanotube Synthesis // Tech. Phys. 2018. V. 63. № 12. P. 1834–1839. https://doi.org/10.1134/S1063784218120253
  9. L’vov P.E., Bulyarskiy S.V., Gusarov G.G., Molodenskiy M.S., Pavlov A.A., Ryazanov R.M., Dudin A.A., Svetukhin V.V. Kinetics of Nickel Particle Formation on Silicon Substrate with a Buffer Layer of Niobium Nitride // J. Phys.: Condens. Matter. 2020. V. 32. № 24. P. 245001. https://doi.org/10.1088/1361-648X/ab7870
  10. Львов П.Е., Светухин В.В., Булярский С.В., Павлов А.А. Моделирование смачивающих фазовых переходов в тонких пленках // Физика твердого тела. 2019. T. 61. № 10. C. 1916–1925.
  11. Peng Y., Wang Z., Alsayed A.M., Yodh A.G., Han Y. Publisher’s Note: Melting of Colloidal Crystal Films // Phys. Rev. Lett. 2010. V. 104. № 21. P. 205703. https://doi.org/10.1103/PhysRevLett.104.219901
  12. Thiele U. Recent Advances in and Future Challenges for Mesoscopic Hydrodynamic Modelling of Complex Wetting // Colloids Surf., A. 2018. V. 553. P. 487–495. https://doi.org/10.1016/j.colsurfa.2018.05.049
  13. Shchekin A.K., Lebedeva T.S., Suh D. The Overlapping Surface Layers and the Disjoining Pressure in a Small Droplet // Colloids Surf., A. 2019. V. 574. P. 78–85. https://doi.org/10.1016/j.colsurfa.2019.04.071
  14. Kukushkin S.A., Osipov A.V. Kinetics of First-Order Phase Transitions in the Asymptotic Stage // J. Exp. Theor. Phys. 1998. V. 86. № 6. P. 1201–1208. https://doi.org/10.1134/1.558591
  15. Slezov V.V., Schmelzer J. Kinetics of Formation and Growth of a New Phase with a Definite Stoichiometric Composition // J. Phys. Chem. Solids. 1994. V. 55. № 3. P. 243–251. https://doi.org/10.1016/0022-3697(94)90139-2
  16. Nowak W.B., Keukelaar R., Wang W., Nyaiesh A.R. Diffusion of Nickel Through Titanium Nitride Films // J. Vac. Sci. Technol., A. 1985. V. 3. № 6. P. 2242–2245. https://doi.org/10.1116/1.572900

Supplementary files

Supplementary Files
Action
1. JATS XML
2.

Download (1MB)
3.

Download (312KB)
4.

Download (1MB)
5.

Download (70KB)
6.

Download (127KB)
7.

Download (57KB)

Copyright (c) 2023 С.В. Булярский, А.А. Дудин, П.Е. Львов, Т.С. Гришин, Г.А. Рудаков, Г.Г. Гусаров

This website uses cookies

You consent to our cookies if you continue to use our website.

About Cookies