The influence of photoelectron processes in a semiconductor substrate on the adsorption of polycationic and polyanionic molecules


Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

White-light illumination during the adsorption of polyanionic molecules of glucose oxidase (GOx) enzyme on the surface of p-Si/SiO2/polyethylenimine structure leads to a threefold decrease in the surface concentration of GOx molecules. Same illumination during the GOx adsorption on the n-Si/SiO2/PEI structure leads to a sevenfold increase in the surface concentration of enzyme molecules. Changes in the amount of adsorbed GOx molecules depending on the intensity of irradiation are explained by electron transfer processes and recharging of electronic states at the Si/SiO2 interface and within SiO2 layer.

Об авторах

S. Stetsyura

Saratov State University

Автор, ответственный за переписку.
Email: stetsyurasv@mail.ru
Россия, Saratov, 410012

A. Kozlowski

Saratov State University

Email: stetsyurasv@mail.ru
Россия, Saratov, 410012

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML

© Pleiades Publishing, Ltd., 2017

Согласие на обработку персональных данных

 

Используя сайт https://journals.rcsi.science, я (далее – «Пользователь» или «Субъект персональных данных») даю согласие на обработку персональных данных на этом сайте (текст Согласия) и на обработку персональных данных с помощью сервиса «Яндекс.Метрика» (текст Согласия).