A New Method of Suppressing Peripheral Absorption in a Laser-Plasma Short-Wave Radiation Source with a Xe Gas-Jet Target


Дәйексөз келтіру

Толық мәтін

Ашық рұқсат Ашық рұқсат
Рұқсат жабық Рұқсат берілді
Рұқсат жабық Тек жазылушылар үшін

Аннотация

A more than tenfold increase in the intensity of EUV radiation from a laser-produced plasma source is observed experimentally under the illumination of a Xe gas-jet target with a wide laser beam covering its densest part compared with the radiation intensity at the traditional geometry, when the beam is sharply focused on the jet axis. As an explanation, it is assumed that in this case almost the whole dense part of the jet is heated and ionized under the action of laser irradiation and becomes transparent to the quanta of the studied radiation. The thickness of the absorbing peripheral shell of a laser spark decreases accordingly, that leads to the increase in the radiation intensity reaching the observer.

Авторлар туралы

P. Butorin

Peter the Great St. Petersburg Polytechnic University

Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 195251

S. Kalmykov

Ioffe Physical Technical Institute

Хат алмасуға жауапты Автор.
Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021

M. Sasin

Ioffe Physical Technical Institute

Email: Serguei.Kalmykov@mail.ioffe.ru
Ресей, St. Petersburg, 194021


© Pleiades Publishing, Ltd., 2018

Осы сайт cookie-файлдарды пайдаланады

Біздің сайтты пайдалануды жалғастыра отырып, сіз сайттың дұрыс жұмыс істеуін қамтамасыз ететін cookie файлдарын өңдеуге келісім бересіз.< / br>< / br>cookie файлдары туралы< / a>